برچسب: FHR

شرکت مهار فن ابزار نماینده‌ی انحصاری دستگاه‌های لایه نشانی کندوپاش (Sputtering) پژوهشی و آموزشی با چهار منبع مختلف براي كندوپاش DC، RF، مگنترون و يا اچ كندوپاشی در دو مدل ساده‌ MS 75×4-L و کامل‌تر MS 150×4 منابع لايه‌نشاني باياس‌ RF، دو عدد (يك عدد براي MS 75) باياس‌ DC، دو عدد مگنترون (انتخابی فقط براي MS 150) منبع اچ كردن الكترود RF با سطح مسي الكترود اچينگ در بالا مشخصات هدف فاصله‌ي ثابت هدف و زيرلايه: ۷٠ میلی‌متر (٦٠ میلی متر براي (MS 75 و ۷۵ میلی‌متر (انتخابی) ضخامت ٢ تا ١٠ میلی متر و قطر ۲۰ سانتي‌متر (٣ اينچ براي MS 75) فاصله‌ي هدف و سپر: ۳۰ میلی‌متر اتصال به صفحه‌ي مسي براي مواد شكننده مانند اكسيدها و فلزات گران‌قيمت كاركرد سیستم گرمادهی تا C° ۴۰۰ (تا C°۳۰۰ براي MS 75 و گزينه تا C° ۴۰۰) فشار نهایی mbar۷- ١٠ (mbar٦- ١٠ براي MS 75) کندوپاش به سمت پايين یکنواختی: ٥% و در صورت استفاده از منبع مگنترون: ۳% نرخ لايه‌نشاني nm/min20-1 گزينه‌ي نمایش نرم‌افزاری عملیات گزينه‌ي دستی/ اتوماتیک (گزينه‌ي PLC/ نرم‌افزاري) مشخصات اجزاء محفظه‌ی جداگانه برای انتقال نمونه با خلا متوسط ۳-١٠ (انتخابی) محفظه‌ی لایه‌نشانی از فولاد زنگ‌نزن ميزنگهدارنده‌ی زیرلایه گردشی با سرعت قابل تنظیم چهار پشت‌بند ميزنگهدارنده ابعاد هر پشت‌بند زيرلايه تا cm۱۵)٤ اينچ براي(MS 75 به صورت چهارگوش یا گرد یک پشت‌بند در مركز براي لايه‌نشاني همزمان براي مدل MS 75 پشت‌بند داراي قابلیت گردشی و گرمادهی تا C°۴۰۰ (تا C°۳۰۰ براي MS 75 و گزينه تا C° ۴۰۰) پوشش محافظ سطح محفظه برای جلوگیری از آلودگی محفظه جداگانه برای آماده‌سازی سطح با خلا ۶-١٠ و قابلیت اعمال پلاسما براي مدل MS 150 دو ورودی گاز با خلوص N۶ پمپ توربومولکولي یا کرایو سیستم نانولایه یونی نانو کوتینگ دستگاه‌هاي لايه‌برداري (اچ) يون فعال Reactive Ion Etcher (RIE) در سه مدل AER 100، AER 150 و AER 200 ساخت كمپاني FHR آلمان قابل استفاده براي لايه‌برداري لايه‌هاي اكسيدي، نيتريدها، فلزات و لايه‌هاي آلي از روي ويفرهاي نيمه‌هادي، سيستم‌هاي حسگر، ماسك‌هاي نوري و كاربردهاي آناليز شكست گزينه‌هاي انتخابي: - اچ كردن نيمه‌هادي‌ها توسط تركيبات فلوئور يا فلزات توسط تركيبات كلر - محفظه‌ي ورود نمونه به صورت دستي يا خودكار - ابزار كنترل فرآيند در محل/آشكارسازهاي نقطه‌ي پاياني - طيف‌سنج انتشار نوري - تداخل‌سنجي ليزر - پروب rf - محفظه‌ي ورود نمونه براي عمليات كاست به كاست مشخصات فني: - ويفر: قطرهاي mm١٠٠، mm١٥٠ و mm٢٠٠ - محفظه: آلومينيوم - الكترود اچ: آلومينيوم - سيستم خلاء: پمپ توربومولكولار l/s٥٠٠ ... l/s١٥٠ (بسته به مشخصات آزمايشگاه) پمپ چرخشي m3/h٥٠ ... m3/h16 يا پمپ‌هاي خشك (بسته به مشخصات آزمايشگاه) - فشار نهايي: mbar٦-١٠×١< - فشار كاري: mbar١-١٠×٢ ... ٣-١٠×٥ - سيستم RF: MHz 56/13، W١٠٠٠/W٦٠٠ شبكه‌ي تنظيم خودكار با اندازه‌گيري ولتاژ باياس - كنترل: PLC، ارتباط از طريق PC - محيط: AC: /N/PE٣، V٤٠٠/٢٣٠، A٣٠، Hz٥٠ آب: بر حسب پروژه هواي فشرده: حدود bar٦ خروجي گاز: DN 25 ISO-KF (DN 40 ISO-KF) (بسته به مشخصات آزمايشگاه) دستگاه‌هاي اچ كمپاني FHR امكان استفاده در قالب سيستم‌هاي خوشه‌اي برای لايه‌نشانی با استفاده ازترکيب چند تکنيک لايه‌نشاني كندوپاش، PECVD، و آنيل برای مصارف صنعتی و تحقيقاتی را نيز دارا هستند.